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正性光刻胶

高分辨率正性光刻胶,适用于半导体微细加工

产品概述

专为精细图形化设计,曝光区域可溶于显影液,适用于多种需要高精度图形的场景。

核心特性

  • 高分辨率(≤1.5μm)
  • 优异附着力
  • 良好工艺窗口
  • 低颗粒污染
  • 优异稳定性

产品图片

正性光刻胶

应用领域

半导体封装

微电子制造

MEMS 器件

光电器件

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