SANTAM TECHNOLOGY
适用于高分辨率图形转移的负性光刻胶材料
曝光区域发生交联反应而不溶于显影液，形成负像图形，具有良好的耐蚀刻和耐电镀性能，广泛应用于集成电路、先进封装及微机电系统(MEMS)制造工艺。
我们的技术团队将为您提供专业的产品选型建议和技术支持
